產(chǎn)品名稱：光電化學(xué)工作站
更新日期：2024-10-14
產(chǎn)品型號(hào)：LK5600
產(chǎn)品特點(diǎn)：LK5600光電化學(xué)工作站是將光化學(xué)與電化學(xué)方法合并使用，以研究分子或離子的基態(tài)或激發(fā)態(tài)的氧化還原反應(yīng)現(xiàn)象、規(guī)律及應(yīng)用的儀器。光電化學(xué)工作站可用于研究光直接影響電極過程的電化學(xué)、用于光能與電能和化學(xué)能的轉(zhuǎn)換測(cè)量、光電化學(xué)電池的光電轉(zhuǎn)化測(cè)量、光電合成。
LK5600光電化學(xué)工作站的詳細(xì)資料：
LK5600光電化學(xué)工作站
光電化學(xué)工作站是將光化學(xué)與電化學(xué)方法合并使用，以研究分子或離子的基態(tài)或激發(fā)態(tài)的氧化還原反應(yīng)現(xiàn)象、規(guī)律及應(yīng)用的儀器。光電化學(xué)工作站可用于研究光直接影響電極過程的電化學(xué)、用于光能與電能和化學(xué)能的轉(zhuǎn)換測(cè)量、光電化學(xué)電池的光電轉(zhuǎn)化測(cè)量、光電合成。利用光電化學(xué)原理可以富集稀有金屬和貴金屬，又可以記錄和保存信息，還可用簡(jiǎn)單的方法隨時(shí)消去信息，這些都是發(fā)展科學(xué)技術(shù)所必需的手段。
一、LK5600光電化學(xué)工作站技術(shù)指標(biāo)：
氙燈光源參數(shù):
*聚焦透鏡焦距調(diào)整范圍：0～40 mm;
*平行光光斑直徑：38 mm ;
*點(diǎn)光源光斑：8 mm;(根據(jù)用戶要求可調(diào))
* 光譜范圍：200～1500nm;
* 波長(zhǎng)重復(fù)性：0.1nm;
* 光譜帶寬：0.054nm～16.2nm;
* 準(zhǔn)確度：0.25nm;
* zui小步距：0.01nm;
* 焦面尺寸：寬25mm*高10mm;
* 狹縫：寬度10um~3mm可調(diào);
* 高度：4mm;
* 氙燈壽命：1000小時(shí);
氙燈穩(wěn)流電源參數(shù):
* 工作電壓：220V ±10% ;
* 耗費(fèi)功率：<350W/800W;
* 氙燈功率：150W/350W，;
* 穩(wěn)流電流調(diào)節(jié)范圍：5～8A/8-18A;
* 觸發(fā)電壓：>300V;
* 電流峰值紋波因素：0.075%。
電化學(xué)工作站:
電化學(xué)工作站:
* 電位范圍：-10 V～10 V;
* 電流范圍：±250 mA;恒電位/恒電流(電位分辨率) 0.01mV、電流靈敏度 ≤0.01pA
* 參比電極輸入阻抗：1012Ω;
* 靈敏度：±10mA～±1nA (8個(gè)量程檔位);
* 輸入偏置電流：<10 pA ，電位增量：0.01 mV;
* 掃描速率：0.01mV/S～5000V/S。低噪聲程控放大1～64倍。
二、光電化學(xué)工作站功能
該儀器采用閉環(huán)控制技術(shù)調(diào)節(jié)和調(diào)制光強(qiáng)和單色光, 從而保證了光源的穩(wěn)定性. 在儀器匹配的光源內(nèi)裝有光強(qiáng)傳感器, 工作時(shí)系統(tǒng)自動(dòng)比較并計(jì)算測(cè)得的實(shí)際光強(qiáng)與設(shè)定值的偏差并加以校正,這樣就消除了由于光源器件的非線性、老化、以及溫度漂移產(chǎn)生的光強(qiáng)輸出誤差。不僅如此，儀器還允許直接輸入單位為(W/cm2)的具體數(shù)值校正光源，非常方便。該工作站負(fù)責(zé)控制、驅(qū)動(dòng)激發(fā)光源，輸出強(qiáng)度調(diào)制光信號(hào)。
太陽(yáng)能電池 (如燃料敏化太陽(yáng)能電池)，半導(dǎo)體材料 ，光誘導(dǎo)的化學(xué)反應(yīng)
Fill factor:光電池填充因子效率。
IMPS: 強(qiáng)度調(diào)制光電流譜。
CIMPS：可控強(qiáng)度調(diào)制光電流譜。
IMVS： 強(qiáng)度調(diào)制光電壓譜 。
CIMVS：可控強(qiáng)度調(diào)制光電壓譜。
IPCE: 光電轉(zhuǎn)換效率。
PVI： 光致電流電壓特性。
PCS： 光電流譜。
CTF： 交叉?zhèn)鬏敼δ苎芯俊?br />
IPCE: 轉(zhuǎn)化效率。透射和吸收研究(以上方法均可用于調(diào)制單色光)。其他常規(guī)的電化學(xué)方法，
恒電位技術(shù)：開路電位&時(shí)間測(cè)量曲線、單電位階越計(jì)時(shí)電流法、雙電位階越計(jì)時(shí)電流法、單電位階越計(jì)時(shí)電量法、雙電位階越計(jì)時(shí)電量法、恒電位電解庫(kù)侖分析法；
線性掃描技術(shù)：線性掃描伏安法、循環(huán)伏安法、塔菲爾(Tafel)曲線測(cè)量、線性掃描溶出伏安法；
脈沖技術(shù)：微分脈沖伏安法、微分脈沖溶出伏安法；
方波技術(shù)：方波伏安法、方波溶出伏安法(EIS，CV等所有電化學(xué)功能)。
三、工作環(huán)境
1)環(huán)境溫度：-15oC ～~ 45 oC
2)環(huán)境相對(duì)濕度：< 75%
3)儀器四周通風(fēng)良好，空氣中不含腐蝕性氣體。
4)儀器周圍無強(qiáng)電磁場(chǎng)干擾。
5)電源電壓：AC220V(50Hz)±10%。
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